关注顾（c）基于不同受体的OSCsPCE直方图。
该研究工作利用了XANES等技术分析了富含缺陷的四氧化三钴的化学环境，展回展望从而证明了其中氧缺陷的存在及其相对含量。电网本文由材料人专栏科技顾问罗博士供稿。
目前材料的形貌表征已经是绝大多数材料科学研究的必备支撑数据，关注顾一个新颖且引人入胜的形貌电镜图也是发表高水平论文的不二法门。利用原位TEM等技术可以获得材料形貌和结构实时发生的变化，展回展望如微观结构的转化或者化学组分的改变。近日，电网王海良课题组利用XANES等先进表征技术研究富含缺陷的单晶超薄四氧化三钴纳米片及其电化学性能（Adv.EnergyMater.2018,8,1701694）,如图一所示。
目前，关注顾国内的同步辐射光源装置主要有北京同步辐射装置，关注顾（BSRF，第一代光源），中国科学技术大学的合肥同步辐射装置（NSRL，第二代光源）和上海光源（SSRF，第三代光源），对国内的诸多材料科学的研究起到了巨大的作用。吸收光谱可以利用吸收峰的特性进行定性的分析和简单的物质结构分析，展回展望此外还可以用于物质吸收的定量分析。
电网此外机理研究还需要先进的仪器设备甚至是原位表征设备来对材料的反应进行研究。
TEMTEM全称为透射电子显微镜，关注顾即是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子在与样品中的原子发生碰撞而改变方向，从而产生立体角散射如果此法奏效，展回展望基本24小时后发情即可结束。
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